Simulación de un plasma de hidrógeno en un reactor de microondas TM112 para la deposición de diamante

Autores:

Martinez, Alejandro|Tsygankov, Petr
Barragan, Yerson
Parada, Fredy
Paez, Carlos
Orozco, Eduardo

Tipo de recurso:

Article of journal

Fecha de publicación:

2025

Institución:

Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia

Repositorio:

RiUPTC: Repositorio Institucional UPTC

Idioma:

spa

OAI Identifier:

oai:repositorio.uptc.edu.co:001/18803

Acceso en línea:

https://doi.org/10.19053/uptc.01217488.v16.n2.2025.18688

Palabra clave:

reactor de plasma
microondas
simulación computacional
películas delgadas
deposición química de vapor.
plasma reactor
microwave,
simulation,
thin films
chemical vapor deposition.

Rights

openAccess

License

https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/deed.es