Profundidad de curado de resinas con diferentes fotoiniciadores polimerizadas con dos lámparas LED

ANTECEDENTES: Se ha establecido que las lámparas LED no son viables para el fotopolimerizado de resinas que presentan fotoiniciadores diferentes a canforoquinona, debido a las diferencias entre el espectro de emisión de las lámparas y el espectro de absorción del fotoiniciador. OBJETIVO: Determinar la profundidad de curado de resinas con fotoiniciadores diferentes utilizando lámparas LED. METODOS: Se realizó un diseño experimental in vitro; 120 muestras de resina de 2x8mm y 4x8mm se fabricaron y se dividieron en 12 grupos de 10 muestras. Se utilizó la resina Point 4 XL1 (Kerr) con fenilpropanodiona y Z100 A3 (3M ESPE) con canforoquinona. Las lámparas utilizadas fueron Elipar Freelight 2 (3M ESPE), Bluephase (IVOCLAR) y Elipar 2500 (3M ESPE). Se determinó la profundidad de curado con el durímetro de Vickers. El análisis estadístico se realizó mediante la prueba de ANOVA factorial de tres vías y la prueba H de Kruskall Wallis. RESULTADOS: No se encontraron diferencias significativas en la profundidad de curado obtenida con las tres lámparas (p0.05). En muestras de 2x8mm con fenilpropanodiona se obtuvo una profundidad de curado promedio de 0.3986 y 0.4027 para la parte superior e inferior respectivamente y 0.3917 y 0.3999 para muestras de 4x8mm. En muestras de 2x8mm con canforoquinona el promedio fue de 0.2801 y 0.2815 para la parte superior e inferior respectivamente y 0.3261 y 0.3264 para muestras de 4x8mm. CONCLUSIONES: No se encontraron diferencias significativas en la profundidad de curado que se obtuvieron con las tres lámparas.

• Autores: Fadul Ortiz, José Rafael; Pontificia Universidad Javeriana; Molina Sánchez, César Augusto; Pontificia Universidad Javeriana; Yáñez Meza, Edwin Armando; Pontificia Universidad Javeriana; Luna Ángel, Luis Eduardo; Pontificia Universidad Javeriana
• Tipo de recurso: Article of journal
• Fecha de publicación: 2009
• Institución: Pontificia Universidad Javeriana
• Repositorio: Repositorio Universidad Javeriana
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repository.javeriana.edu.co:10554/30857
• Acceso en línea: http://revistas.javeriana.edu.co/index.php/revUnivOdontologica/article/view/536; http://hdl.handle.net/10554/30857
• Rights: openAccess
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